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日本dip coater膜厚計AFW-100W
使用反射光譜膜厚計用於(yu) 膜厚測量應用,例如硬塗層。
[機理] 當
樣品受到光照射時,它會(hui) 根據膜厚顯示出*的光譜。薄膜表麵反射的光與(yu) 穿過薄膜並在基板表麵反射的光相互幹擾。當光的相位匹配時,強度增加,而當光相移時,強度降低。反射計是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。
[優(you) 點] -
與(yu) SEM 和觸針式輪廓儀(yi) 不同,無需接觸即可進行測量。
- 與(yu) 橢偏儀(yi) 相比,便宜且易於(yu) 使用。
將來也可以安裝在量產(chan) 設備中。
日本dip coater膜厚計AFW-100W
模型 | AFW-100W |
---|---|
用 | 對於一般膜厚 |
設備配置 | 單元主體、測量台、2 分支光纖 (1.5m)、PC |
測量波長範圍 | 380-1050nm |
膜厚測量範圍 | 100nm~1μm(曲線擬合法) |
1 μm 至 60 μm (FFT) | |
測量再現性 | 0.2%-1%(視膠片質量而定) |
測量光斑直徑 | 約7mm |
光源 | 12V-50W鹵素燈 |
測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
外形尺寸 (mm) | 測量台:W150 x D150 x H115 |
機身:W230 x D230 x H135 | |
大約重量 | 5.5kg * 不包括 PC |
公用事業 | AC100V 50 / 60Hz |
轟天猛將 | 鹵素燈 |
顯微分光膜厚儀
通過使用顯微鏡,可以測量具有過去無法測量的不規則性的電子元件和曲麵透鏡。

姓名 | 顯微分光膜厚儀 |
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設備配置 | 顯微鏡、單元主體、光纖 (1m)、PC |
顯微鏡 | 奧林巴斯金相顯微鏡 |
測量波長範圍 | 380-700nm |
膜厚測量範圍 | 50nm-1.5μm (C/F) |
1.5 μm 至 50 μm (FFT) | |
測量再現性 | 0.2%-1%(視膠片質量而定) |
測量光斑直徑 | Φ6 μm 至 Φ120 μm |
光源 | 12V-100W鹵素燈 |
測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
外形尺寸 (mm) | 顯微鏡:W317.5 x D602 x H480 |
機身:W230 x D230 x H135 | |
大約重量 | 25kg * 不包括 PC |
公用事業 | AC100V 50 / 60Hz |
轟天猛將 | 鹵素燈 |