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日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
評估裝置(膜厚計)
建議將反射光譜膜厚計用於(yu) 硬塗層等膜厚測量應用。

[機理]當
用光照射樣品時,取決(jue) 於(yu) 膜的厚度,它顯示出*的光譜。膜表麵上反射的光與(yu) 穿過膜並在基板表麵上反射的光相互幹擾。當光的相位匹配時,強度增加,而當光的相位偏移時,強度降低。反射法是通過分析該光譜來測量膜厚的方法。
[優(you) 點]-
與(yu) SEM和測針型輪廓儀(yi) 不同,無需接觸即可進行測量。
-與(yu) 橢偏儀(yi) 相比,價(jia) 格低廉且易於(yu) 使用。
將來也可以將其安裝在量產(chan) 設備中。
模型 | AFW-100W |
---|---|
用 | 一般膜厚 |
設備配置 | 單元本體,測量架,2分支光纖(1.5m),PC |
測量波長範圍 | 380-1050納米 |
膜厚測量範圍 | 100nm〜1μm(曲線擬合法) |
1μm至60μm(FFT) | |
測量重現性 | 0.2%-1%(取決於膠片質量) |
測量光斑直徑 | 約7mm |
光源 | 12V-50W鹵素燈 |
測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
外形尺寸(mm) | 尺寸支架:W150 x D150 x H115 |
機身:W230 x D230 x H135 | |
大概重量 | 5.5kg *不包括PC |
公用事業 | AC100V 50/60赫茲 |
轟天猛將 | 鹵素燈 |
測量工作量

從(cong) 傳(chuan) 感器正下方的深度尺寸(黃色箭頭):
可以測量126毫米8英寸晶圓。
顯微分光膜測厚儀
通過使用顯微鏡,可以測量過去無法測量的具有不規則性的電子元件和曲麵透鏡。

名稱 | 顯微分光膜測厚儀 |
---|---|
設備配置 | 顯微鏡,機身,光纖(1m),PC |
顯微鏡 | 奧林巴斯金相顯微鏡 |
測量波長範圍 | 380-700納米 |
膜厚測量範圍 | 50nm-1.5μm(C / F) |
1.5μm至50μm(FFT) | |
測量重現性 | 0.2%-1%(取決於膠片質量) |
測量光斑直徑 | Φ6μm至Φ120μm |
光源 | 12V-100W鹵素燈 |
測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
外形尺寸(mm) | 顯微鏡:W317.5 x D602 x H480 |
機身:W230 x D230 x H135 | |
大概重量 | 25kg *不包括PC |
公用事業 | AC100V 50/60赫茲 |
轟天猛將 | 鹵素燈 |
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