日本analyzer氧化鋯型氧氣濃度計原理

我們(men) 的每種產(chan) 品都有其自己的特性，但是由於(yu) 其設計，TB係列的應用範圍非常廣泛，從(cong) 高純氣體(ti) 中的微量氧氣到真空氣氛以及燃燒廢氣中的氧氣測量。
除了內(nei) 置N 2 PSA和O 2 PSA內(nei) 置產(chan) 品外，我們(men) 還提供除常規氧氣測量外的功能產(chan) 品，例如預混合氣體(ti) 分析儀(yi) ，高溫氣體(ti) 濕度計和氧氣泵，以滿足用戶的需求。需要，我正在做到。

氧化鋯陶瓷由於(yu) 在電池的內(nei) 表麵和外表麵上的氧分壓不同而成為(wei) 一個(ge) 產(chan) 生電壓（電池電壓）的氧濃縮電池，當氧氣被紅色加熱時，氧離子很容易在晶體(ti) 結構中移動。
通過使電解池內(nei) 部的氣氛與(yu) 外部的樣品氣體(ti) 接觸，可以基於(yu) 氣氛中的氧濃度產(chan) 生電壓。這可以由以下公式表示。

E是由氧化鋯陶瓷產(chan) 生的電壓（mV），T是電池的溫度，並且大氣中的氧氣濃度是恒定的，因此，如果電池溫度恒定，則電池電壓也是恒定的。
樣品氣體(ti) 中的氧氣濃度可以通過反算來獲知。
因此，當檢測池的兩(liang) 側(ce) 都處於(yu) 大氣中時，池電壓理論上變為(wei) 0mV，並且隨著樣品氣體(ti) 的氧氣濃度相對於(yu) 大氣降低，池電壓升高。

金屬的熱處理過程或還原過程是對陶瓷燒結的還原氣氛，傳感器H2氣氛中為TB，H2 +惰性氣體，CO / CO，2大氣中2 H2-1 / 2 O，2 H2O，CO + 1/2 O 2 ⇔CO 2 1×10 ^ -20 ATMO引起從解離2以測量氧分壓的下麵，⇔還原氧化的判斷中，可以執行氣氛管理。
（“ DG-R”係列適用於高精度還原氣氛測量。）

該儀器測量樣氣的氧氣分壓。
因此，即使氣體中的氧濃度相同，如果壓力變化，也會根據該壓力產生氧分壓的電動勢。
例如，如果將大氣（約21％O 2）減壓至1 Torr，則大氣壓為760 Torr ，因此可以獲得21 x 1/760 = 0.027％O 2的指令。
TB-IIF在CVD排氣管線中的記錄為1×10 ^ -3托，而TB-IIV在直接安裝真空爐中的記錄為1×10 ^ -6托。

CO + H2％可以通過在m值（空燃比）為1的燃燒條件下從CO + H2 / CO 2 + H2O解離生成的氧分壓測量為10 ^ -10或更小來測量。或更少的直接燃燒氣氛爐中。
由於1％（CO + H2）+ 0.5％O 2 = 1％（CO + H2O），因此1％（CO + H2）可用-0.5％O 2代替，並以-O 2％的範圍表示。
另外，如果目標是m值為1的等效燃燒，我們可以以零點為中心製造-02％到0到+ 02％的範圍

當將氧化鋯圓盤加熱至恒定溫度並向鉑電極施加恒定電壓時，由於(yu) 泵浦作用，以氧離子為(wei) 載體(ti) 的電流流過，帽中的氧被釋放，並且與(yu) 氧平衡的電流會(hui) 從(cong) 小孔中擴散出來，並會(hui) 流動。（請參閱下麵的圖1和圖2）
與(yu) 該氧氣濃度變化相對應的電流變化被放大，並通過儀(yi) 表中的折線軟件線性化以顯示氧氣濃度。