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    通用CVD設備 MPCVD-50

    發布時間： 2023-10-16　　點擊次數： 571次

    通用CVD設備 MPCVD-50 是一種多功能管式爐式熱CVD設備，適用於(yu) 各種應用，例如CNT合成、碳膜形成、納米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。

    該設備具有以下特點和功能：

    1. 多功能應用：MPCVD-50 可用於(yu) 合成碳納米管（CNT）、在粉末樣品上沉積碳以及沉積各種CVD薄膜，如硫族化物層狀材料的氮化處理和成膜等。它的多功能性能使其適用範圍廣泛。

    2. 氣體(ti) 控製係統：設備配備三個(ge) 質量流量氣體(ti) 流量控製係統，可實現精確的氣體(ti) 控製。這樣，用戶可以根據需要精準地控製反應氣體(ti) 的流量和比例，確保反應的質量和可重複性。

    3. 液體(ti) 燃料引入係統：MPCVD-50 設備還配備了液體(ti) 燃料（如乙醇）的引入係統，可應用於(yu) 無法安裝碳氫化合物氣體(ti) 的場所。這樣，用戶可以在不受氣體(ti) 限製的情況下進行實驗和研究。

    4. 高度可擴展性：設備具有高度可擴展性，可以輕鬆處理任何類型的處理需求。無論是在研究還是生產(chan) 環境中，MPCVD-50 都能適應不同規模和應用的需求。

    5. 具備標配真空排氣係統：設備標配真空排氣係統，可用作真空爐、氣氛爐等。這樣，用戶可以根據需要在不同的氣氛條件下進行反應和處理，並且具備更大的靈活性。

    6. 緊湊堅固的外殼設計：MPCVD-50 設備采用緊湊堅固的外殼設計，易於(yu) 安裝在桌麵實驗室工作台等上。其精心設計的結構確保設備的穩定性和可靠性。

    此外，MPCVD-50 設備還配備了其他重要組件和功能，如管式爐、可編程溫度控製器、質量流量控製器、波登管真空計、旋轉泵等。這些組件和功能的整合使得設備操作簡便，效果穩定可靠。

    總而言之，通用CVD設備 MPCVD-50 具備多功能的應用特性，適用於(yu) 各種氣相沉積需求。其精確的氣體(ti) 控製係統和液體(ti) 燃料引入係統確保了精準的實驗和研究結果。設備的高度可擴展性和緊湊堅固的外殼設計使其成為(wei) 實驗室和生產(chan) 環境中的理想選擇。


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